آلة طلاء فراغ عالية

تحقق آلة طلاء الفراغ العالية طلاء خالٍ من التلوث في بيئة فراغ عالية للغاية (<5.0×10⁻⁶ Pa), suitable for the preparation of high-purity films. The equipment adopts a dual-chamber isolation design, combined with plasma cleaning and magnetron sputtering technology, significantly enhancing the adhesion and density of the coating. The high vacuum coating machine performs exceptionally well in fields such as high-temperature alloys and aerospace components, with a film layer temperature resistance > 600℃.

· تم تجهيز آلة طلاء الفراغ العالية بنظام المسح الكهرومغناطيسي ، مما يؤدي إلى تصفية شوائب الجسيمات الكبيرة لضمان توحيد الفيلم ؛

· عملية درجة الحرارة المنخفضة (<80℃) avoids damage to the substrate and is suitable for high vacuum coating of sensitive materials;

· يدعم نظام التحكم المطور بشكل مستقل المراقبة في الوقت الفعلي لمعلمات متعددة ، وتلبية المتطلبات الصناعية الصارمة.

حقول التطبيق: الفضاء ، بطاريات الطاقة الجديدة ، الطلاء الأدوات المتطورة ، إلخ.