نظرة عامة على المنتج
تم تصميم معدات الأغشية الرقيقة لتبخير شعاع الإلكترون هذه من أجل -ترسيب البخار الفيزيائي (PVD) بدقة عالية. باستخدام شعاع الإلكترون عالي الطاقة-المركّز لقصف المواد المصدرية، يحقق النظام معدلات تبخر عالية لنقاط-الانصهار-المرتفعة للمعادن والأكاسيد والمواد العازلة للكهرباء.
نظرًا لأنه مبني على بنية فراغية معيارية، فإن النظام يستوعب مدافع إلكترونية متعددة الجيوب، وتركيبات ركيزة قابلة للتخصيص، و-مراقبة متقدمة في الموقع. إنه يخدم مختبرات البحث والتطوير وخطوط الإنتاج عالية الإنتاجية- التي تتطلب رقابة صارمة على قياس العناصر الكيميائية للأغشية والالتصاق والأداء البصري.
-
معدات التبخير ذات الشعاع الإلكتروني العالي الفراغتعمل سلسلة -نظام التبخر بشعاع الإلكترون عالي التفريغ من سلسلة EBE على ترسيب أغشية رقيقة عالية النقاء-للتطبيقات البصرية، وأشباه الموصلات، والتطبيقات المعدنية. ومن خلال توجيه شعاع إلكتروني مركّز...عرض المزيد
-
نظام ترسيب الأغشية الرقيقة بشعاع الإلكترونيوفر نظام ترسيب الأغشية الرقيقة بشعاع الإلكترون معالجة PVD اتجاهية وعالية النقاء- للأبحاث المتقدمة والإنتاج الصناعي. باستخدام شعاع الإلكترون المركز والموجه مغناطيسيًا والموجه إلى مادة المصدر داخل...عرض المزيد
-
معدات التبخير الفراغي بالشعاع الإلكترونييقوم نظام التبخير الفراغي بشعاع الإلكترون هذا بتنفيذ عملية الترسيب الفيزيائي للبخار (PVD) لنقطة انصهار-عالية-من المعادن والأكاسيد والمواد العازلة الكهربائية. من خلال توجيه شعاع الإلكترون المركز...عرض المزيد
-
معدات ترسيب الأغشية الرقيقة ذات الشعاع الإلكترونييستخدم نظام ترسيب شعاع الإلكترون الصناعي مدافع الإلكترون المركزة مغناطيسيًا (3 كيلووات إلى 15 كيلووات) لتوجيه -تدفقات الطاقة عالية الكثافة إلى الماء-المدافئ النحاسية المبردة. من خلال تبخير مواد...عرض المزيد
-
نظام الأغشية الرقيقة لتبخر شعاع الإلكترونتم تصميم نظام التبخر بالشعاع الإلكتروني من سلسلة EBE - لترسيب البخار الفيزيائي (PVD) للمعادن ذات درجة الانصهار العالية -}}-المعادن والمواد العازلة الكهربائية والمواد البصرية. من خلال استخدام شعاع...عرض المزيد
-
معدات الأغشية الرقيقة لتبخير شعاع الإلكترونسلسلة EBE-V600 عبارة عن نظام أساسي للترسيب الفيزيائي للبخار (PVD) على نطاق صناعي- مصمم لطلاء الأغشية الرقيقة-الدقيقة للمكونات البصرية، وأجهزة أشباه الموصلات، والمواد المتقدمة. من خلال توجيه شعاع...عرض المزيد
المواصفات الفنية
|
المعلمة |
نطاق المواصفات |
ملاحظات / التكوين القياسي |
|
الضغط الأساسي النهائي |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
يتم تحقيقه عن طريق مجموعات الضخ الجزيئي المبردة أو التوربينية |
|
أبعاد الغرفة |
حسب الطلب (قطر داخلي من 500 ملم إلى 1200 ملم) |
304L / 316L من الفولاذ المقاوم للصدأ، مصقول كهربائيًا-. |
|
E-تقييم قوة السلاح |
6 كيلووات إلى 15 كيلووات (مولدات كنس الجيب المتعددة-) |
انحراف شعاع قابل للبرمجة وفهرسة متعددة{0}}للبوتقات |
|
معدل الإيداع |
0.1 نانومتر/ثانية إلى 10 نانومتر/ثانية |
التحكم في الحلقة-المغلقة في الوقت الفعلي-من خلال شاشة كريستال الكوارتز |
|
توحيد سماكة الفيلم |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
تركيبات ركيزة كوكبية أو قبة مع دوران متغير السرعة |
|
درجة حرارة الركيزة |
المحيطة إلى 800 درجة |
تسخين إشعاعي متكامل مع ردود فعل حرارية PID |
ميزات المعدات الرئيسية
المسدس الإلكتروني-عالي الثبات:
يتميز بالانحراف المغناطيسي والتركيز متعدد النقاط- لمنع ارتفاع درجة حرارة المواد المصدر والقضاء على البصق أثناء التبخر التفاعلي.
تصميم بوتقة وحدات:
مجهزة بـ 4 إلى 6-مواقد جيبية قابلة للفهرسة، مما يسمح بالترسيب متعدد الطبقات دون كسر الفراغ.
التعشيق الفراغي المتقدم:
تعمل صمامات الهواء التي يتم التحكم فيها بواسطة PLC، والتخشين الآلي/التسلسل العالي للفراغ، والأقفال المتداخلة على الحماية من انقطاع مياه التبريد واختلال الطاقة.
غرفة التلوث المنخفضة-:
يستخدم التدريع الداخلي الفولاذ المقاوم للصدأ -المصقول كهربائيًا مع بطانات قابلة للإزالة لتقليل الجسيمات بسرعة وإجراء الصيانة.
مواد الفيلم وركائز
مواد التبخر المتوافقة
المعادن: Au، Ag، Al، Ti، Cr، Ni، Pt، Cu، Mo، W
العوازل والأكاسيد: SiO2، TiO2، Al2O3، Ta2O5، HfO2، ITO
أنواع الركيزة
رقائق السيليكون (2 بوصة إلى 12 بوصة)
الزجاج البصري، والسيليكا المنصهرة، وركائز الكوارتز
أفلام بوليمر مرنة (بوليميد، PET عبر وحدات اللف-إلى-اللف)
ركائز السيراميك (Al2O3، AlN)
التطبيقات

الطلاءات البصرية:
طبقات مضادة للانعكاس (AR)-، ومرشحات ذات نطاق ضيق-، ومرايا عالية الانعكاس -لأنظمة الليزر والضوئيات.

أجهزة أشباه الموصلات:
تكوين التلامس الأومي، ومعدنة البوابة،-ومعالجة الرفع للإلكترونيات الدقيقة.

الإلكترونيات الضوئية:
طبقات أكسيد موصلة شفافة (TCO) وأغشية رقيقة لشاشات OLED والخلايا الكهروضوئية.

البحث والتطوير المتقدم:
الطبقات المغناطيسية ذات الأغشية الرقيقة-الاستكشافية، والأغشية فائقة التوصيل، والهياكل المتغايرة-الطبقات المتعددة.
التخصيص وتكوين النظام
تتم تهيئة كل نظام من أنظمة الأغشية الرقيقة-لمطابقة وصفات العمليات المحددة وتخطيطات المنشأة. تشمل التعديلات الهندسية المتوفرة ما يلي:
ضخ اختيار المكدس:
تكوينات المضخات التوربينية-الجزيئية (TMP)، أو مضخات التبريد، أو-الزيت مصممة خصيصًا لمتطلبات التفريغ الأساسي والإنتاجية.
تحميل-تأمين التكامل:
تحميل يدوي-قفل أو أنظمة مجموعة -آلية متعددة الغرف للحفاظ على -سلامة فراغ عالية للغاية وزيادة إنتاجية الرقاقة.
القياس في-الموقع:
منافذ التكامل لأجهزة قياس القطع الناقص الطيفية، أو الشاشات البصرية، أو أجهزة تحليل الغاز المتبقي (RGA).
برامج التحكم:
واجهة PLC/HMI خاصة مع تخزين الوصفات وتسجيل البيانات وبروتوكولات الاتصال SECS/GEM للتكامل الذكي في المصنع.
التصنيع ومراقبة الجودة
تصنيع السفن:
تخضع جميع الغرف المفرغة لاختبار تسرب مطياف كتلة الهيليوم مع حد رفض أقل من 1 × 10^-9 Pa·m³/s.
سلامة اللحام:
يتم إجراء لحام TIG تحت درع الغاز الخامل، يليه تخميل السطح الداخلي والتلميع الميكانيكي لتقليل إطلاق الغازات.
اختبار قبول المصنع (FAT):
اختبار تشغيل لمدة 72-تجفيف مستمر- لقياس منحنيات الضخ، ودقة مسح المسدس الإلكتروني، وأوقات استجابة التعشيق، والثبات الحراري قبل وضع الصندوق.
الامتثال والمعايير:
تم تصنيعه بموجب نظام إدارة الجودة المعتمد ISO 9001، مع أنظمة مصممة لتلبية توجيهات CE وإرشادات السلامة والمبادئ التوجيهية المريحة ذات الصلة بـ SEMI (S2/S8).
التعليمات
نحن معروفون جيدًا-كأحد أبرز مصنعي وموردي معدات الأغشية الرقيقة لتبخير شعاع الإلكترون في الصين. إذا كنت ستشتري معدات الأغشية الرقيقة لتبخر شعاع الإلكترون المخصصة المصنوعة في الصين، فنحن نرحب بك للحصول على قائمة الأسعار من مصنعنا. للتشاور حول الأسعار، اتصل بنا.
