نظرة عامة على المنتج

 

تم تصميم معدات الأغشية الرقيقة لتبخير شعاع الإلكترون هذه من أجل -ترسيب البخار الفيزيائي (PVD) بدقة عالية. باستخدام شعاع الإلكترون عالي الطاقة-المركّز لقصف المواد المصدرية، يحقق النظام معدلات تبخر عالية لنقاط-الانصهار-المرتفعة للمعادن والأكاسيد والمواد العازلة للكهرباء.


نظرًا لأنه مبني على بنية فراغية معيارية، فإن النظام يستوعب مدافع إلكترونية متعددة الجيوب، وتركيبات ركيزة قابلة للتخصيص، و-مراقبة متقدمة في الموقع. إنه يخدم مختبرات البحث والتطوير وخطوط الإنتاج عالية الإنتاجية- التي تتطلب رقابة صارمة على قياس العناصر الكيميائية للأغشية والالتصاق والأداء البصري.

 
 
المواصفات الفنية

 

المعلمة

نطاق المواصفات

ملاحظات / التكوين القياسي

الضغط الأساسي النهائي

< 5.0 × 10^-6 Pa

يتم تحقيقه عن طريق مجموعات الضخ الجزيئي المبردة أو التوربينية

أبعاد الغرفة

حسب الطلب (قطر داخلي من 500 ملم إلى 1200 ملم)

304L / 316L من الفولاذ المقاوم للصدأ، مصقول كهربائيًا-.

E-تقييم قوة السلاح

6 كيلووات إلى 15 كيلووات (مولدات كنس الجيب المتعددة-)

انحراف شعاع قابل للبرمجة وفهرسة متعددة{0}}للبوتقات

معدل الإيداع

0.1 نانومتر/ثانية إلى 10 نانومتر/ثانية

التحكم في الحلقة-المغلقة في الوقت الفعلي-من خلال شاشة كريستال الكوارتز

توحيد سماكة الفيلم

< ±1% to ±2% across standard substrates

تركيبات ركيزة كوكبية أو قبة مع دوران متغير السرعة

درجة حرارة الركيزة

المحيطة إلى 800 درجة

تسخين إشعاعي متكامل مع ردود فعل حرارية PID

 

ميزات المعدات الرئيسية

المسدس الإلكتروني-عالي الثبات:

يتميز بالانحراف المغناطيسي والتركيز متعدد النقاط- لمنع ارتفاع درجة حرارة المواد المصدر والقضاء على البصق أثناء التبخر التفاعلي.

تصميم بوتقة وحدات:

مجهزة بـ 4 إلى 6-مواقد جيبية قابلة للفهرسة، مما يسمح بالترسيب متعدد الطبقات دون كسر الفراغ.

 

التعشيق الفراغي المتقدم:

تعمل صمامات الهواء التي يتم التحكم فيها بواسطة PLC، والتخشين الآلي/التسلسل العالي للفراغ، والأقفال المتداخلة على الحماية من انقطاع مياه التبريد واختلال الطاقة.

غرفة التلوث المنخفضة-:

يستخدم التدريع الداخلي الفولاذ المقاوم للصدأ -المصقول كهربائيًا مع بطانات قابلة للإزالة لتقليل الجسيمات بسرعة وإجراء الصيانة.

 

 

مواد الفيلم وركائز

 

مواد التبخر المتوافقة

المعادن: Au، Ag، Al، Ti، Cr، Ni، Pt، Cu، Mo، W
العوازل والأكاسيد: SiO2، TiO2، Al2O3، Ta2O5، HfO2، ITO

 

أنواع الركيزة

رقائق السيليكون (2 بوصة إلى 12 بوصة)
الزجاج البصري، والسيليكا المنصهرة، وركائز الكوارتز
أفلام بوليمر مرنة (بوليميد، PET عبر وحدات اللف-إلى-اللف)
ركائز السيراميك (Al2O3، AlN)

 
 
 
التطبيقات
High Vacuum Electron Beam Evaporation Equipment

الطلاءات البصرية:

طبقات مضادة للانعكاس (AR)-، ومرشحات ذات نطاق ضيق-، ومرايا عالية الانعكاس -لأنظمة الليزر والضوئيات.

Electron Beam Thin Film Deposition System

أجهزة أشباه الموصلات:

تكوين التلامس الأومي، ومعدنة البوابة،-ومعالجة الرفع للإلكترونيات الدقيقة.

Electron Beam Vacuum Evaporation Equipment

الإلكترونيات الضوئية:

طبقات أكسيد موصلة شفافة (TCO) وأغشية رقيقة لشاشات OLED والخلايا الكهروضوئية.

Electron Beam Evaporation Thin Film System

البحث والتطوير المتقدم:

الطبقات المغناطيسية ذات الأغشية الرقيقة-الاستكشافية، والأغشية فائقة التوصيل، والهياكل المتغايرة-الطبقات المتعددة.

 

التخصيص وتكوين النظام
 
 

تتم تهيئة كل نظام من أنظمة الأغشية الرقيقة-لمطابقة وصفات العمليات المحددة وتخطيطات المنشأة. تشمل التعديلات الهندسية المتوفرة ما يلي:

 

ضخ اختيار المكدس:

تكوينات المضخات التوربينية-الجزيئية (TMP)، أو مضخات التبريد، أو-الزيت مصممة خصيصًا لمتطلبات التفريغ الأساسي والإنتاجية.

 
 

تحميل-تأمين التكامل:

تحميل يدوي-قفل أو أنظمة مجموعة -آلية متعددة الغرف للحفاظ على -سلامة فراغ عالية للغاية وزيادة إنتاجية الرقاقة.

 
 

القياس في-الموقع:

منافذ التكامل لأجهزة قياس القطع الناقص الطيفية، أو الشاشات البصرية، أو أجهزة تحليل الغاز المتبقي (RGA).

 
 

برامج التحكم:

واجهة PLC/HMI خاصة مع تخزين الوصفات وتسجيل البيانات وبروتوكولات الاتصال SECS/GEM للتكامل الذكي في المصنع.

 

 

 
 
التصنيع ومراقبة الجودة
01.

تصنيع السفن:

تخضع جميع الغرف المفرغة لاختبار تسرب مطياف كتلة الهيليوم مع حد رفض أقل من 1 × 10^-9 Pa·m³/s.

02.

سلامة اللحام:

يتم إجراء لحام TIG تحت درع الغاز الخامل، يليه تخميل السطح الداخلي والتلميع الميكانيكي لتقليل إطلاق الغازات.

03.

اختبار قبول المصنع (FAT):

اختبار تشغيل لمدة 72-تجفيف مستمر- لقياس منحنيات الضخ، ودقة مسح المسدس الإلكتروني، وأوقات استجابة التعشيق، والثبات الحراري قبل وضع الصندوق.

04.

الامتثال والمعايير:

تم تصنيعه بموجب نظام إدارة الجودة المعتمد ISO 9001، مع أنظمة مصممة لتلبية توجيهات CE وإرشادات السلامة والمبادئ التوجيهية المريحة ذات الصلة بـ SEMI (S2/S8).

 

التثبيت والدعم الفني
في-تشغيل الموقع:
يتولى مهندسو الخدمة المعتمدون في المصنع- تحديد المواقع الميكانيكية، ووصلات المرافق (الطاقة، ومياه التبريد، والهواء المضغوط)، والخبز الأولي بالفراغ-.
ضبط العملية:
يتم تشغيل التجربة التعاونية باستخدام ركائز محددة من قبل العميل-للتحقق من معدلات الترسيب والتجانس والتصاق الأفلام.
صيانة دورة الحياة:
ضمان توافر قطع الغيار للمكونات عالية التآكل{{0} (الخيوط والبوتقات والدروع) ودعم التشخيص عن بعد عبر اتصالات VPN الصناعية المشفرة.

 

 

التعليمات

 

 

س: ما هي المهلة الزمنية النموذجية لتكوين النظام القياسي؟

ج: يتم شحن التكوينات القياسية خلال 16 إلى 20 أسبوعًا من الموافقة على الرسم. تتطلب الأنظمة المخصصة للغاية تكوينات قفل تحميل خاص- أو هندسة غرفة غير قياسية تتراوح من 24 إلى 30 أسبوعًا.

س: كيف يمكنك منع التلوث المتبادل للمواد-بين المبخرات المختلفة؟

ج: يستخدم النظام جيوبًا فردية من المياه المبردة- مفصولة بحواجز حرارية وفيزيائية، مقترنة بأنماط كنس محسنة لشعاع الإلكترون تعمل على التخلص من تناثر المواد.

س: ما هي متطلبات المرافق الخاصة بالمنشأة لنظام بقدرة 10 كيلووات؟

A: Requirements typically include 3-phase 380V/480V AC power, closed-loop chilled water supply (10–15°C, flow rate >30 لتر/دقيقة)، والهواء المضغوط الجاف (0.6-0.8 ميجا باسكال) للصمامات الهوائية.

نحن معروفون جيدًا-كأحد أبرز مصنعي وموردي معدات الأغشية الرقيقة لتبخير شعاع الإلكترون في الصين. إذا كنت ستشتري معدات الأغشية الرقيقة لتبخر شعاع الإلكترون المخصصة المصنوعة في الصين، فنحن نرحب بك للحصول على قائمة الأسعار من مصنعنا. للتشاور حول الأسعار، اتصل بنا.

إرسال التحقيق
اتصل بناإذا كان لديك أي سؤال

يمكنك إما الاتصال بنا عبر الهاتف أو البريد الإلكتروني أو النموذج عبر الإنترنت أدناه. سيتصل بك المتخصص لدينا قريبًا.

اتصل الآن!