يستخدم نظام ترسيب شعاع الإلكترون الصناعي مدافع الإلكترون المركزة مغناطيسيًا (3 كيلووات إلى 15 كيلووات) لتوجيه -تدفقات الطاقة عالية الكثافة إلى الماء-المدافئ النحاسية المبردة. من خلال تبخير مواد مصدر عالية النقاء - تحت ظروف تفريغ عالية - (الضغط الأساسي النهائي < 5 x 10^-6 Torr)، يشكل النظام أغشية رقيقة موحدة وكثيفة على رقائق أشباه الموصلات والزجاج البصري والركائز المعدنية. تم تصميمه خصيصًا لبيئات الإنتاج عالية الإنتاجية ومختبرات المواد المتقدمة التي تتطلب تحكمًا صارمًا في قياس العناصر المتكافئة وتكرار الفيلم.
المواصفات الفنية
|
المعلمة |
المواصفات الهندسية |
|
الضغط الأساسي النهائي |
< 5 x 10^-6 Torr (Turbomolecular & Cryogenic configuration dependent) |
|
تصنيف قوة السلاح الإلكتروني |
من 3 كيلووات إلى 15 كيلووات (التحكم في عملية مسح الجيب المتعددة- مع المسح النقطي القابل للبرمجة) |
|
جمعية الموقد بوتقة |
4 إلى 6 جيوب، دوران قابل للفهرسة، أكسجين-حر عالي التوصيل-ماء نحاسي (OFHC)-موقد مبرد |
|
تركيبات الركيزة |
دوران متغير (0 إلى 30 دورة في الدقيقة)، تسخين اختياري للركيزة المشعة حتى 500 درجة |
|
توحيد السماكة |
< +/- 1% across 100 mm to 200 mm substrates (via optimized planetary rotation fixture) |
|
بناء الغرفة |
304 من الفولاذ المقاوم للصدأ، -مصقول داخليًا كهربائيًا (خشونة السطح Ra < 0.4 um) |
|
هندسة التحكم في العمليات |
PLC مدمج مع IPC صناعي، -تحكم في معدل PID بحلقة مغلقة يتم تشغيله بواسطة شاشة كوارتز كريستال (QCM) |
الميزات الرئيسية
انحراف الشعاع المغناطيسي بمقدار 270 درجة:يعمل مسار الشعاع المنحني على حماية باعث الفتيل من تدفق البخار المباشر، مما يمنع تدهور الباعث ويقلل -قوس الجهد العالي.
مغلق-التحكم في معدل الترسيب:تعمل التعليقات في الوقت الفعلي من -واجهة QCM للمستشعر المزدوج- على تعديل خرج مصدر الطاقة ديناميكيًا، مما يحافظ على معدلات نمو مستقرة (+/- 0.1 أنجستروم/ثانية).
فهرسة متعددة الجيوب قابلة للبرمجة:يتيح برج البوتقة المزود بمحرك إمكانية الترسيب المتسلسل متعدد الطبقات-دون كسر الفراغ أو تهوية غرفة المعالجة.
تسلسل الفراغ المتشابك:تعمل صمامات البوابة الهوائية الآلية والبرمجيات-التخشين/التعشيق العالي-المفرط على حماية الركائز الحساسة وتمنع -أخطاء التفريغ التي يسببها المشغل.
تكوين نظام الفراغ
النظام الفرعي التخشين:مضخة دوارة دوارة -مرحلة مزدوجة مدمجة مع منفاخ جذور عالي السعة- للانتقال السريع من الجو إلى الفراغ القاسي (< 10^-2 Torr).
نظام فرعي عالي -للفراغ:مضخة توربينية جزيئية ذات رفع مغناطيسي (1200 لتر/ثانية) مقترنة بمصيدة باردة ذات حلقة مغلقة اختيارية- أو مضخة تبريد للقضاء على التدفق العكسي للهيدروكربون.
المقاييس والتشخيص:مقاييس بيراني مزدوجة للتحقق من الخط الخشن؛ أجهزة قياس التأين بالكاثود الساخن من Bayard-Alpert لمراقبة-الفراغ العالي. منافذ اختبار تسرب الهيليوم ISO-KF/ISO-F المتكاملة قياسية في جميع المشعبات.
مواد الفيلم وركائز
مواد التبخير:
المعادن المقاومة للحرارة:دبليو، مو، تي، تا، بت
أكاسيد عازلة:SiO2، TiO2، Al2O3، Ta2O5
ركائز متوافقة:
رقائق أشباه الموصلات (2 بوصة إلى 8 بوصة Si، GaAs)
الركائز البصرية (السيليكا المنصهرة، الكوارتز، الياقوت)
الرقائق المعدنية المتخصصة والسيراميك المتقدم
التطبيقات
مرشحات الليزر والتداخل البصري:يتطلب ترسيب مجموعات المرشحات العازلة متعددة الطبقات-مطابقة دقيقة لمؤشر الانكسار والحد الأدنى من التشتت البصري.
تصنيع جهاز أشباه الموصلات:تكوين اتصالات أومية،-مخططات رفع المعادن، وحواجز عزل عازلة للبوابة.
أبحاث الطاقة الكهروضوئية والطاقة:توليف الطبقات العازلة وأقطاب الأكسيد الموصل الشفاف (TCO) للخلايا الشمسية المتقدمة.
التخصيص
هندسة الغرفة:تم تصميم حجم الغرفة القابل للتطوير لاستيعاب الألواح المسطحة كبيرة الحجم أو حاملات الركيزة المخصصة المتخصصة.
تهجين المصدر:إمكانات التكامل لتكوينات التبخر- المشتركة، والجمع بين مدافع الشعاع E- المزدوجة أو مصادر الشعاع E-/المقاومة الحرارية المختلطة.
تكامل غرف الأبحاث:من خلال -تخطيطات التثبيت على الحائط (القياسية أو الصفراء-المتوافقة مع غرف الأبحاث الخفيفة) التي تتميز بممرات الوصول إلى المرافق والخدمات الخلفية-.
مراقبة الجودة والاختبار
اختبار مطياف كتلة الهيليوم:تخضع كل غرفة مفرغة مُصنعة لاختبارات صارمة لتسرب مقياس الكتلة -لضمان حد أساسي قدره < 1 × 10^-9 Pa xm^3 / ثانية.
-حرق الجهد العالي-في:تخضع مصادر طاقة المدفع الإلكتروني-لاحتراق تشغيلي متواصل لمدة 48-ساعة- واختبار قوة العزل الكهربائي في ظل ظروف التحميل الكامل.
علم قياس الأبعاد:يتم استخدام التحقق من جهاز قياس الإحداثيات (CMM) في -استواء حامل الركيزة والبوتقة-إلى-تفاوتات محاذاة البندقية.
التثبيت والدعم الفني
اختبار قبول المصنع (FAT):يتم تقديمه مع حزم وثائق شاملة، بما في ذلك سجلات التحقق من ترسب المواد، ومنحنيات المضخة-الأسفلية، وتقارير اختبار السلامة الكهربائية.
في-تشغيل الموقع:يقوم المهندسون الميدانيون المعتمدون في المصنع- بتوجيه المعدات الميكانيكية ووصلات المرافق (الطاقة والمياه والغاز) والتشخيص الأولي لسلامة الفراغ.
برنامج تدريب المشغلين:تدريب منظم في الموقع-يغطي الأقفال المتداخلة لسلامة النظام، وسير عمل استبدال الكاثود/الفتيل، وبرمجة وصفات HMI.
الأسئلة المتداولة
س: ما هو متوسط العمر التشغيلي لخيط مدفع الإلكترون، وكيف تتم صيانته؟
ج: يمتد طول عمر الفتيل عادةً من 50 إلى 100 ساعة تشغيل، ويخضع لكثافة تيار الشعاع والضغوط الجزئية للغاز المتبقي في الغرفة. تسمح مجموعة الكاثود- سريعة التحرير بتبادل خرطوشة الفتيل بالكامل خلال 30 دقيقة دون تعطيل المحاذاة الضوئية للإلكترون.
س: كيف يقوم النظام بتخفيف تناثر المواد أثناء تبخر الأكسيد بنقطة -انصهار- عالية؟
ج: تقوم أنماط تنقيط شعاع الإلكترون ثنائية الأبعاد القابلة للبرمجة بتوزيع المدخلات الحرارية بشكل موحد عبر سطح الحبيبة المصدر، مما يخفف من ارتفاع درجة الحرارة الموضعية ويقمع طرد الجسيمات (البصق) الشائعة مع الأكاسيد المقاومة للحرارة.
س: ما هي مرافق المنشأة المطلوبة لدعم نظام قياسي بقدرة 10 كيلو وات؟
A: Infrastructure prerequisites include 3-phase 380V/480V AC electrical service, compressed air (6 to 8 bar) for pneumatic actuator control, an independent closed-loop water chiller (cooling capacity >= 15 kW, flow rate >= 40 لتر/دقيقة)، وتنظيف خطوط تطهير النيتروجين الجاف.
الوسم : معدات ترسيب الأغشية الرقيقة بشعاع الإلكترون، الصين مصنعي معدات ترسيب الأغشية الرقيقة بشعاع الإلكترون، الموردين، المصنع, معدات أفلام رقيقة صلبة, نظام CVD رفيع, معدات أفلام رقيقة لتطبيقات تصنيع أجهزة البيانات الكبيرة, معدات أفلام رقيقة لأجهزة الاستشعار والتطبيقات تصنيع المحركات, معدات أفلام رقيقة لتطبيقات الخلايا الشمسية, نظام معالجة الأفلام الرفيع
